P-N keçidi

Vikipediya, azad ensiklopediya
Naviqasiyaya keç Axtarışa keç
Çap versiyası artıq dəstəklənmir və render xətaları ola bilər. Zəhmət olmasa brauzerinizi yeniləyin və əvəzinə standart brauzer çap funksiyasından istifadə edin.

PN keçidi — Elektronika sənayesində istifadə edilən diod, tranzistor və inteqral (İC) dövrə elementlərinin istehsalında istifadə edilir.

Sadə bir P-N quruluşunun formalaşması

Silisium və ya Germanium kristalına kifayət qədər aşqar olunaraq, p-tipli və n-tipli maddələr yaradılmışdı. Bu maddələr tək halda elektrik funksiyaları yerinə yetirməzlər. P və N tipli element bir arada istifadə edilsə, bu keçidə P-N keçidi deyilər. Böyük və kiçik daşıyıcılarının ikisi də göstərilmişdir. Şəkildə P-N keçidi sahəsində müsbət və mənfi ionlarla yaradılan gərginlik səddi görülür. Yaranan bu gərginlik səddi; 25℃-də silisium üçün maneə 0.7 volt, germanium üçün 0.3 volt civarındadır. Bu gərginliyə "diodun əks gərginliyi" deyilir.

Diodun əks gərginliyi temperaturdan təsirlənir. Məsələn, temperatur miqdar-ındakı hər 1℃ artım, diodun əks gərginliyinin təxminən 2.3mv azalmasına səbəb olur. Diodun əks gərginliyi çox əhəmiyyətlidir. Çünki P-N keçidinə kənardan tətbiq olunan gərginliyin yaradacağı cərəyan miqdarının stabil olmasını təmin edir.[1]

İstinadlar

  1. "Luque, Antonio; Steven Hegedus (29 March 2011). Handbook of Photovoltaic Science and Engineering". 4 August 2023 tarixində arxivləşdirilib. İstifadə tarixi: 8 September 2019.

Xarici keçidlər