Elmira Cəfərova Əsəd qızı (7 iyun 1937) — AMEA Fizika İnstitutunun alimi.
Elmira Cəfərova | |
---|---|
Elmira Cəfərova Əsəd qızı | |
Doğum tarixi | |
Doğum yeri | Naxçıvan Muxtar Respublikası, Naxçıvan şəhəri |
Vətəndaşlığı | Azərbaycan |
Milliyyəti | Azərbaycanlı |
Atası | Əsəd |
Anası | Hökümə |
Elm sahələri | Bərk cisim elektronikası, mikroelektronika və heteroquruluşlar fizikası |
Elmi dərəcəsi | fizika-riyaziyyat elmləri doktoru |
Elmi adı | Laboratoriya rəhbəri |
İş yeri | AMEA Fizika İnstitutu |
Alma-mater | Moskva Dövlət Universiteti |
Təhsili | Ali |
Elmi rəhbərləri | akademik Həsən Abdullayev, professor Zərifə İsgəndərzadə |
Mükafatları | “International personality of the year 2001” - The International Biographical Centre of Cambridge. AMEA Fizika-Riyaziyyat və Texnika Elmləri Bölməsinin “Fəxri Fərmanı” (2002, 2012), Fizika İnstitutunun Fəxri Fərmanı (2015). |
Elmira Cəfərova 1937-ci il iyun ayının 7-də Naxçıvan Muxtar Respublikası Naxçıvan şəhərində ziyalı ailəsində anadan olub. O, 1961-ci ildə Moskva Dövlət Universitetinin fizika fakültəsini bitirib və təyinatla AMEA Fizika İnstitutuna göndərilib. Burada görkəmli alim, akademik H. M. Abdullayevin rəhbərlik etdiyi yarımkeçiricilər laboratoriyasında elmi işçi kimi əmək fəaliyyətinə başlayıb. O, 1968-ci ildə "Yarımkeçiricilər və dielektriklər fizikası" ixtisası üzrə "Diffuziya yolu ilə alınmış n- və p- bazalı silisium diodlarının reaktiv xassələrinin tədqiqi" mövzusunda namizədlik dissertasiyasını müdafiə edib. Elmira Cəfərova 1969-cu ildə yeni yaradılmış "Heteroquruluşlar fizikası" laboratoriyasında böyük elmi işçi, aparıcı elmi işçi vəzifələrində işləmiş və 2000-ci ildən hal-hazıradək həmin laboratoriyanın rəhbəri vəzifəsində çalışır. 2007-ci ildə isə "Dərin aşqar səviyyəli germanium, silisium və onlar əsasında çəpər quruluşlarda qeyri-stasionar elektron prosesləri" mövzusunda "Fiziki elektronika" ixtisası üzrə doktorluq dissertasiyasını müdafiə edib.
1. Investigation of p-n junctions n-Si obtained by electromigration of although a thin SiO2 film, Sol. Stat. Communication 1984, V49, № 3, p.273.
2. Сечение фотоионизации уровней Ni в Si, ФТП, 1987, т.21, в.12, с.2237
3.Исследование влияние электронного облучения на структуру GaSe-SiO2, ФТП,2002, т.36, № 7, с.858.
4. Влияние электроактивного Ni на свойства Si при низкотемпературном отжиге, Неорганические материалы, 2010, т.46, в.10, с.1163.
5. Features of barrier capacitance of micropixel avalance photodiodes at different frequency, Universal journal of Physics and Applications, 2016, 1–4, p.10.
6. The equivalent inductance silicon micropixel avalance photodiodes. JOSR of Engineering, 2017, V.7, № 5, p.50–53.
AMEA Fizika İnstitutu Elmi Şurasının üzvü
http://www.science.gov.az/forms/doktora-nauk-instituta-fiziki/835"